紫外臭氧清洗提供一種簡(jiǎn)單，經(jīng)濟(jì)，快速獲得超潔凈的表面，去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵等）上的有機(jī)污染物。
　　一：紫外臭氧清洗的應(yīng)用：
　　1、微電子產(chǎn)品的表面清洗：微型馬達(dá)軸,磁頭驅(qū)動(dòng)架,光盤(pán),光電器件,手機(jī)攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導(dǎo)體硅片,掩膜版。
　　2、石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過(guò)濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。
　　3、在膠粘接或是印刷之前，對(duì)高分子聚合制品的表面改性：橡膠粘接，塑料汽車部件，透鏡保護(hù)膜,塑料薄膜，樹(shù)脂成型空氣袋，IC包裝，注射針接合部份的表面性，介入導(dǎo)管的表面改型等。
　　4、精密集成電路的表面清洗：液晶顯示器，精密電路板,軟性電路板接頭，薄膜基板的清洗，金屬基板的清洗等。
　　5、科研過(guò)程的表面清洗及處理：半導(dǎo)體，生物芯片，納米材料，聚合物，光化學(xué)等。
　　6、在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，硅晶片涂保護(hù)膜、鋁蒸發(fā)膜前進(jìn)行光清洗，可以提高粘合力，防止針孔、裂縫的發(fā)生。
　　7、大規(guī)模集成電路的密度越來(lái)越高，晶格的微細(xì)化越來(lái)越密，要求表面的潔凈度越來(lái)越高，光清洗可以有效地實(shí)現(xiàn)表面的原子清潔度，而且對(duì)芯片表面不會(huì)造成損傷。
　　8、磁頭固定面的粘合，磁頭涂敷，以及提高金屬絲的連接強(qiáng)度，光清洗后效果更好。
　　9、在光盤(pán)的生產(chǎn)中，沉積各種膜前作光清洗準(zhǔn)備，可以提高光盤(pán)的質(zhì)量。
　　二：紫外臭氧清洗的應(yīng)用范圍：
　　光清洗技術(shù)的應(yīng)用范圍十分廣泛，在現(xiàn)代信息技術(shù)行業(yè)中使用光清洗技術(shù)比較普遍，隨著我國(guó)工業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展，光清洗和光改質(zhì)技術(shù)還將逐步應(yīng)用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域。
　　小編語(yǔ)錄：關(guān)于臭氧清洗的應(yīng)用、應(yīng)用范圍簡(jiǎn)單介紹到這，相信大家都明白了吧！總的來(lái)說(shuō)，希望對(duì)大家有所幫助。